UV/H2O2工藝對水中典型藥物卡馬西平的光化學降解研究
| 論文類型 | 技術與工程... | 發表日期 | 2013-09-01 |
| 來源 | 中南大學學報 | ||
| 作者 | 鄧靖,邵益生,高乃云,周石慶,談超群,胡栩豪 | ||
| 關鍵詞 | UV/H2O2 藥物 卡馬西平 降解 | ||
| 摘要 | 研究 H2O2投加量、卡馬西平初始濃度、UV 輻照強度、初始 pH 和共存陰陽離子對卡馬西平降解速率的影響。實驗結果表明：單獨 UV 輻照對卡馬西平基本沒有去除效果，而 UV/H2O2聯合工藝能夠有效地去除卡馬西平；卡馬西平的降解速率隨著 H2O2投加量的增大而增大，隨著卡馬西平初始濃度的增大而降低；增強 UV 輻照強度能夠顯著提高卡馬西平的降解速率；酸性和中性條件有利于 UV/H2O2工藝對卡馬西平的降解；水中陰離子對卡馬西平的降解存在不同程度的抑制作用，抑制程度遵循如下順序(由大至小)：?23CO，3 | ||
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